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1）TMP 的暗影性能如何
2）CommandBuffer.DrawMeshInstanced 无奈画暗影问题
3）Unity 编辑器在 Require 大量加载 Lua 文件时，常常报出 not enough memory
4）场景制作的时候，2D 资源受后处理调色影响比拟大
这是第 335 篇 UWA 技术常识分享的推送，精选了 UWA 社区的热门话题，涵盖了 UWA 问答、社区帖子等技术知识点，助力大家更全面地把握和学习。
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TextMeshPro
Q：请问 TMP 的暗影性能如何？TMP 的描边没方法改成外描边吗？看起来 Outline 是内外都扩的，如果想要改成外扩只能改源码吗？
A1：UGUI 的 Outline 会让对象多渲染 n 次，TMP 的 Outline 并不会让对象的渲染次数减少，性能更好。
在这个 Shader 中把“+outline”删除，Outline 就会只往外扩散了。
感激 Xuan@UWA 问答社区提供了答复
A2：TMP 的暗影性能十分不错，因为它应用的是基于间隔场的渲染技术，这种技术能够在放弃高质量的状况下缩小渲染工夫。这意味着，即便在文本中应用多个暗影成果，也能够取得良好的性能体现。
至于 TMP 的描边成果，它是反对外描边的。默认状况下，TMP 的描边是内外都扩的，然而你能够通过更改材质属性来将其改为外描边。
具体来说，你能够在应用 TMP 组件的对象上找到对应的材质，而后将材质的 Outline Width 属性设置为正数，这样就能够将描边扩大到文本的内部。
须要留神的是，TMP 的材质是应用 ShaderLab 语言编写的，如果须要批改其外部逻辑，可能须要肯定的编程常识。然而，对于简略的批改，例如更改描边成果，你能够尝试应用 Shader Graph 工具来简化批改过程。
感激 NG 週 @UWA 问答社区提供了答复
Rendering
Q：想用 CommandBuffer.DrawMeshInstanced 画暗影，应用的是 URP 的 Lit Shader，ForwardLit 是能够的，且能够 AfterRenderingOpaques。然而暗影是画不进去，请问有什么解决办法吗？以下是代码（代码不是原创）：
https://forum.unity.com/threads/commandbuffer-drawmeshinstanc…
局部代码截图：
针对以上问题，有教训的敌人欢送转至社区交换分享：
https://answer.uwa4d.com/question/6455c52f66cf0b727a3226f9
Rendering
Q：场景制作的时候，要不要开着后处理，遇到的问题是 2D 资源受后处理调色影响比拟大？
咱们的状况比较复杂：
1. 从性能角度思考，低配机型是不开后处理的
2. 2D 角色、2D 修建、3D 场景混合渲染
3. 有半解锁的和平迷雾成果
在这些需要下，场景制作跟后处理要怎么协同呢？
思考了几个计划都不太行：
1. 在 UI 相机画 2D，但无奈完满解决深度问题，因为场景的 RT 是缩放过的，但 UI 采纳全分辨率
2. 2D 片写入 Stencil，有一些半透的云可能遮住 2D 片，写入 Stencil 解决的话可能会有显著的边界问题，且 UberPost 最初是全屏的，因为场景 RT 跟界面 RT 尺寸不同，Stencil 也不对应
3. 将后处理的调色放到 Opaque 之后进行，但这样其余的半透则无奈参加调色，且这种计划带来更多的 RT 切换，在挪动端并不明智
当初想着是在不开前期的状况下设计场景，而后前期调色只是进行微调，尽量不影响 2D，如果成果甚微的话，就不开启前期调色了，不知这样解决如何？次要是 2D 与 3D 混合的场景，不是说 UI，UI 相机自身是不开前期的，不知大家有什么计划？
针对以上问题，有教训的敌人欢送转至社区交换分享：
https://answer.uwa4d.com/question/643e255a4530066a5c277d8f
Lua
Q：在 Unity 2018 编辑器上跑时，启动 Require 大量加载 Lua 文件时，常常报出 not enough memory，很频繁但非必现，在 Windows/Android/iOS 上都不会，用的是 toLua。
A：能够在编辑器外面用 System.IO.File 的接口读 Lua，避开 TextAsset 在编辑器不能卸载的问题。或者尝试降级 Lua 版本。
感激欧月松 @UWA 问答社区提供了答复
封面图来源于网络
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